Băng keo DNP726W-1X

Băng keo DNP726W-1X được sản xuất bằng cách phủ một mặt của lớp nền vải thủy tinh có độ căng cao bằng chất gốc cao su silicon, và mặt còn lại bằng keo dính gốc cao su silicon hiệu suất cao.

Công dụng・Đặc điểm

• Che chắn cho phun phủ plasma ở nhiệt độ cao
• Nhờ độ linh hoạt cao, dễ dàng tạo các mép biên che chắn○
• Phun màng mỏng lên bề mặt kim loại
• Phun gốm ở nhiệt độ cao
• Dành cho ngành phun phủ, ngành hàng không và các căn cứ không quân

Đặc tính

Các giá trị trên là giá trị đại diện và không nhằm mục đích quy cách kỹ thuật.